CAS号：7783-58-6
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英文名称：GERMANIUM(IV) FLUORIDE
分子式
F4Ge
分子量
149
EINECS号
232-011-3
MDL
MFCD00042536
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InChIKey
四氟化锗化学百科
基本信息
| 中文名称 | 四氟化锗 |
| 英文名称 | GERMANIUM(IV) FLUORIDE |
| CAS号 | 7783-58-6 |
| 分子式 | F4Ge |
| 分子量 | 148.63 |
| EINECS号 | 232-011-3 |
物化性质
| 熔点 | −36.5 °C(lit.) |
| 沸点 | -36,5°C |
| 密度 | 2.126 g/mL at 0 °C(lit.) |
| 溶解度 | 与H2O反应 |
| 形态 | 无色气体 |
| 颜色 | 无色 |
| 比重 | 2.126 |
| 水溶解性 | soluble H2O [CRC10] |
| 水解敏感性 | 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents |
| 默克索引编号 | 13,4423 |
安全信息
| 危险品标志 | C,T |
| 危险类别码 | 34 |
| 安全说明 | 26-36/37/39-45 |
| 危险品运输编号 | UN 3304 2.3 |
| WGK Germany | 3 |
| TSCA | Yes |
| 危险等级 | 2.3 |
生产及用途
四氟化锗（GeF4）是一种锗的氟化物，分子量为148.63，无色、辛辣大蒜气味气体，空气中遇水产生大量白烟。常态下四氟化锗性质稳定，在水中发生水解，生成GeO2和H2GeF6。3GeF4+2H2O→GeO2+2H2GeF6。与无水氯化铝反应，交换了卤素之后生成四氯化锗。完全干燥的四氟化锗气体，不侵蚀玻璃，但能腐蚀汞和润滑脂。四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在化学工业中还可用于合成剂。(1)把氧化锗与过量的氟化钙及浓硫酸加热。 (2)六氟锗酸钡的热分解。 BaGeF6→BaF2+GeF4 把生成的气体用液体二硫化碳冷却到-112℃，除去挥发性杂质。
用途
近来，已结合乙硅烷气体将四氟化锗用于直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。锗和硅纳米晶体可发出强烈的可见光，因其在光电器件中的潜在应用价值而倍受关注。上下游产品
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