四甲基氢氧化铵(Tetramethyl ammonium hydroxide,TMAH)又称为氢氧化四甲铵、四甲基氢氧化胺,无色至淡黄色液体,是最强的有机碱，极易吸潮，有一定的氨气味，在空气中能迅速吸收二氧化碳，在室温下其蒸汽压较低，在135~145℃完全分解气化，高纯品在140℃低温处理也无微量残渣。四甲基氢氧化铵溶液无色透明有微氨臭，1（wt）％溶液PH值为12.9，是与苛性碱同等强度的强碱。将四甲基氢氧化铵水溶液在减压下浓缩可得到5个结晶水的吸湿性针状结晶，再继续浓缩脱水变成3个结晶水的结晶，再变成1个结晶水的四甲基氢氧化铵，在135～140°C分解为三甲胺和二甲基醚，通常制10%、25%的水溶液。四甲基氢氧化铵的制备方法很多，一般采用氧化银法，通过四甲基氯化铵与氧化银反应生成。但该法制备四甲基氢氧化铵的工艺复杂，原料氧化银价格昂贵，而且所得产品含较高的杂质离子，如卤素离子、碱金属离子等，用于有机硅单体催化聚合时，严重影响有机硅产品特性，更无法满足电子领域清洗和腐蚀的要求。
国外从七十年代开始采用电解法制备四甲基氢氧化铵的新工艺，并逐步取代氧化银法。用电解法制得的产品质量较好，成本低，不仅能满足有机硅生产的需要，而且进入了电子工业领域。1.在有机硅方面，四甲基氢氧化铵作为二甲基硅油，氨基硅油，苯甲基硅油，有机硅扩散泵油，无溶剂有硅模塑料，有机硅树脂，硅橡胶等的催化剂； 2.在分析方面，四甲基氢氧化铵作为极谱试剂； 3.在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素； 4.在有机硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。 5．在电路板的印刷和显微镜片的制造中，可作为集成电路板的清洗剂和半导体微加工技术中si-sio2界面的各向异性腐蚀剂。 6．用作CMP过程清洗剂，IC.vlsi及TFI-LCD正胶显影剂。在有机硅方面，作为二甲基硅油，苯甲基硅油，有机硅扩散泵油，无溶剂有硅模塑料，有机硅树脂硅橡胶等的催化剂。在分析方面，作为极谱试剂，在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素，在有机硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。本产为有机硅聚合中的催化剂。其优点是：它具有强碱性，在不超过分解点的温度下稳定。超过分解点时迅速分解为三甲胺和甲醇。当催化完毕后很容易除掉，不留任何残渣。对有机硅产品无污染。因此又称为“暂时催化剂”。在分析中可用于极谱试及用来沉淀不含灰份的许多元素的氢化物。氨基硅油、201甲基硅油、硅橡胶等有机硅类产品聚合中的催化剂。当水溶液使用时，可用作合成RT培司催化剂，亦可用于聚酯类聚合物、纺织、皮革、木材加工、电子、电镀等行业，也是极谱实验支持液在电子行业中，广泛用作硅晶片蚀刻剂、清洗剂、正胶显影剂等用作计算机硅片面的光亮剂、触刻剂等用作极谱分析试剂腐蚀物品剧毒皮下- 小鼠 LDL0: 19 毫克/ 公斤对皮肤,角膜有腐蚀性蒸气有毒; 燃烧排放有毒氮氧化物和氨气烟雾库房通风低温干燥; 与酸类分开存放。雾状水、泡沫、砂土